为开展石墨烯材料的生长和应用研究，实验室资助张兴旺研究员的空间材料课题组搭建石墨烯生长化学气相沉积（CVD）系统一台，目前该设备已调试完毕并投入运行。这套系统采用感应加热的方式，控制反应温度从室温到一千度以上高温范围内稳定可调，满足石墨烯生长条件的要求。多路气源输入和气体离化装置等给材料生长过程赋予灵活的变化空间，为石墨烯的材料生长研究提供有力的支持。

    通过此台设备，课题组目前已经成功制备得到单层至双层结构的石墨烯薄膜，样品尺寸为30 mm，并按需要可达100 mm。薄膜在整片样品范围内连续性和均匀性良好，从喇曼光谱可以验证所得石墨烯薄膜为单层至双层结构、缺陷密度较低。 课题组以高质量的石墨烯为基础，正在开展的石墨烯生长和改性研究。